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Glühentladungsprozesse: Sputtern und Plasmaätzen von Brian Chapman: gebraucht-
US $187,42
Ca.EUR 161,47
Artikelzustand:
Gut
Buch, das gelesen wurde, sich aber in einem guten Zustand befindet. Der Einband weist nur sehr geringfügige Beschädigungen auf, wie z.B. kleinere Schrammen, er hat aber weder Löcher, noch ist er eingerissen. Bei gebundenen Büchern ist der Schutzumschlag möglicherweise nicht mehr vorhanden. Die Bindung weist geringfügige Gebrauchsspuren auf. Die Mehrzahl der Seiten ist unbeschädigt, das heißt, es gibt kaum Knitter oder Einrisse, es wurden nur in geringem Maße Bleistiftunterstreichungen im Text vorgenommen, es gibt keine Textmarkierungen und die Randbereiche sind nicht beschrieben. Alle Seiten sind vollständig vorhanden. Genauere Einzelheiten sowie eine Beschreibung eventueller Mängel entnehmen Sie bitte dem Angebot des Verkäufers.
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eBay-Artikelnr.:403985121402
Artikelmerkmale
- Artikelzustand
- Book Title
- Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching
- Publication Date
- 1980-09-25
- Pages
- 432
- ISBN
- 9780471078289
Über dieses Produkt
Product Identifiers
Publisher
Wiley & Sons, Incorporated, John
ISBN-10
047107828X
ISBN-13
9780471078289
eBay Product ID (ePID)
6038279070
Product Key Features
Number of Pages
432 Pages
Publication Name
Glow Discharge Processes : Sputtering and Plasma Etching
Language
English
Publication Year
1980
Subject
Physics / Electromagnetism, Aeronautics & Astronautics
Type
Textbook
Subject Area
Technology & Engineering, Science
Format
Hardcover
Dimensions
Item Height
1.3 in
Item Weight
30 Oz
Item Length
9.5 in
Item Width
6.4 in
Additional Product Features
Edition Number
1
Intended Audience
Scholarly & Professional
LCCN
80-017047
Dewey Edition
19
Illustrated
Yes
Dewey Decimal
537.5/2
Table Of Content
Gases. Gas Phase Collision Processes. Plasmas. DC Glow Discharges. RF Discharges. Sputtering. Plasma Etching. Appendices. Index.
Synopsis
Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals., Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.
LC Classification Number
QC711.8.G5
Artikelbeschreibung des Verkäufers
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AlibrisBooks
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